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    广西11选5专家精准选码: 化学机械抛光方法和装置.pdf

    摘要
    申请专利号:

    广西11选5大小走势图 www.fnjpv.tw CN201610824467.7

    申请日:

    2016.09.14

    公开号:

    CN106312696A

    公开日:

    2017.01.11

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情: 专利申请权的转移IPC(主分类):B24B 1/00登记生效日:20171023变更事项:申请人变更前权利人:天津华海清科机电科技有限公司变更后权利人:清华大学变更事项:地址变更前权利人:300350 天津市津南区海河科技园区聚兴道9号,8号楼变更后权利人:100084 北京市海淀区清华园变更事项:申请人变更前权利人:清华大学变更后权利人:天津华海清科机电科技有限公司|||实质审查的生效IPC(主分类):B24B 1/00申请日:20160914|||公开
    IPC分类号: B24B1/00; B24B37/10(2012.01)I; B24B37/34(2012.01)I; B24B53/017(2012.01)I; H01L21/304 主分类号: B24B1/00
    申请人: 天津华海清科机电科技有限公司; 清华大学
    发明人: 曹阳; 王同庆; 李昆; 路新春
    地址: 300350 天津市津南区海河科技园区聚兴道9号,8号楼
    优先权:
    专利代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201610824467.7

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2017.11.10|||2017.02.08|||2017.01.11

    法律状态类型:

    专利申请权、专利权的转移|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种化学机械抛光方法和装置,所述化学机械抛光方法,包括如下步骤:抛光,供应抛光液,抛光头夹持微晶玻璃并以第一预定压力P1将微晶玻璃止抵于抛光垫上;修整,供应清洗液,修整单元以第二预定压力P2止抵所述抛光垫;其中所述步骤抛光和所述步骤修整交替进行,且在微晶玻璃的抛光周期内,至少包括两次修整。本发明的化学机械抛光方法,通过将整个抛光周期分隔为多个抛光步骤,在相邻的抛光步骤中对抛光垫进行修整,能够有效减少微晶玻璃样品的表面缺陷,降低其表面粗糙度,且能够使微晶玻璃在抛光过程中保持稳定的抛光率,提高产品良率,便于工业化应用。下面描述根据本发明实施例的化学机械抛光方法。

    权利要求书

    1.一种化学机械抛光方法,其特征在于,包括如下步骤:
    抛光,供应抛光液,抛光头夹持微晶玻璃并以第一预定压力P1将微晶玻璃止抵于抛光
    垫上;
    修整,供应清洗液,修整单元以第二预定压力P2止抵所述抛光垫;其中
    所述步骤抛光和所述步骤修整交替进行,且在微晶玻璃的抛光周期内,至少包括两次
    修整。
    2.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法,其特征在于,进行所述步骤修整时,所述
    修整单元沿所述抛光垫的径向摆动。
    3.根据权利要求2所述的化学机械抛光方法,其特征在于,所述修整单元的摆动幅度L
    满足:3mm≤L≤20mm,且摆动方向沿径向向内和/或向外。
    4.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法,其特征在于,进行所述步骤修整时,所述
    抛光头夹持微晶玻璃继续以设定的压力和转速工作,所述抛光头、所述修整单元和所述抛
    光垫绕相同方向转动,所述修整单元的转速为v1,所述抛光垫的转速为v2,满足:10rpm≤v1
    ≤200rpm,10rpm≤v2≤200rpm。
    5.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法,其特征在于,进行所述步骤修整时,所述
    抛光液的流量减少至Q1,满足:Q1≤300mL/min。
    6.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法,其特征在于,进行所述步骤修整时,所述
    清洗液的流量Q2可调,且满足:100mL/min≤Q2≤5000mL/min。
    7.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法,其特征在于,满足:0.5psi≤P1≤10psi,
    0.5psi≤P2≤10psi。
    8.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法,其特征在于,进行所述步骤抛光时,所述
    修整单元与所述抛光垫间隔开,且不供应清洗液。
    9.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法,其特征在于,每次进行所述步骤抛光的时
    间为T1,每次进行所述步骤修整的时间为T2,满足:5min≤T1≤20min,10s≤T2≤60s。
    10.一种化学机械抛光装置,其特征在于,包括:
    抛光盘,所述抛光盘设置为可旋转式;
    抛光垫,所述抛光垫粘贴在抛光盘上;
    抛光头,所述抛光头用于夹持微晶玻璃;
    抛光液供应单元,所述抛光液供液单元用于提供抛光液;
    清洗液供应单元,所述清洗液供应单元用于提供清洗液;
    修整单元,所述修整单元用于修整所述抛光垫。

    关 键 词:
    化学 机械抛光 方法 装置
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