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    广西11选5前3走势图: 抛光设备.pdf

    摘要
    申请专利号:

    广西11选5大小走势图 www.fnjpv.tw CN201610859516.0

    申请日:

    2016.09.28

    公开号:

    CN106312780A

    公开日:

    2017.01.11

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情: 著录事项变更IPC(主分类):B24B 29/02变更事项:申请人变更前:天津华海清科机电科技有限公司变更后:清华大学变更事项:地址变更前:300350 天津市津南区海河科技园区聚兴道9号,8号楼变更后:100084 北京市海淀区清华园变更事项:申请人变更前:清华大学变更后:天津华海清科机电科技有限公司|||实质审查的生效IPC(主分类):B24B 29/02申请日:20160928|||公开
    IPC分类号: B24B29/02; B24B55/00; H01L21/67 主分类号: B24B29/02
    申请人: 天津华海清科机电科技有限公司; 清华大学
    发明人: 路新春; 赵德文; 许振杰; 王同庆; 李昆
    地址: 300350 天津市津南区海河科技园区聚兴道9号,8号楼
    优先权:
    专利代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201610859516.0

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2017.11.10|||2017.02.08|||2017.01.11

    法律状态类型:

    著录事项变更|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种抛光设备,包括:抛光装置,所述抛光装置包括:抛光盘以及位于所述抛光盘上表面的抛光垫,所述抛光装置沿所述抛光垫的中心轴线方向旋转;清洗装置,所述清洗装置位于所述抛光装置的上方,所述清洗装置设有至少一个向所述抛光垫喷射水的喷水孔,所述喷水孔的喷射方向与竖直方向呈一定夹角且与所述抛光装置的旋转方向相对。根据本发明实施例的抛光设备,喷水孔的喷射方向与竖直方向呈一定夹角且与抛光装置的旋转方向相对,从而提高了清洗装置的清洗效果,避免了晶片被刮伤,提高了晶片的产品质量。

    权利要求书

    1.一种抛光设备,其特征在于,包括:
    抛光装置,所述抛光装置包括:抛光盘以及位于所述抛光盘上表面的抛光垫,所述抛光
    装置沿所述抛光垫的中心轴线方向旋转;
    清洗装置,所述清洗装置位于所述抛光装置的上方,所述清洗装置设有至少一个向所
    述抛光垫喷射水的喷水孔,所述喷水孔的喷射方向与竖直方向呈一定夹角且与所述抛光装
    置的旋转方向相对。
    2.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述清洗装置包括:喷水板,所述喷水
    板形成有水道,所述喷水孔与所述水道连通。
    3.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述喷水板的底面与水平方向呈一定
    夹角,所述喷水孔的延伸方向垂直于所述喷水板的底面。
    4.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述喷水板的底面与水平方向平行,
    所述喷水孔的延伸方向与水平方向呈一定夹角。
    5.根据权利要求4所述的抛光设备,其特征在于,当所述喷水板的底面与水平方向呈第
    一角度时,所述抛光装置沿所述抛光垫的中心轴线方向顺时针方向旋转;当所述喷水板的
    底面与水平方向呈第二角度时,所述抛光装置沿所述抛光垫的中心轴线方向逆时针方向旋
    转。
    6.根据权利要求2所述的抛光设备,其特征在于,所述清洗装置还包括支撑组件,所述
    支撑组件包括:
    支撑座;
    支撑柱,所述支撑柱的一端与所述支撑座相连,所述支撑柱的另一端向上延伸;
    基板,所述基板与所述支撑柱的另一端相连,所述喷水板固定在所述基板的下表面。
    7.根据权利要求6所述的抛光设备,其特征在于,所述支撑柱设有安装通孔,所述安装
    通孔内设有清洗管,所述清洗管与所述水道相通。
    8.根据权利要求7所述的抛光设备,其特征在于,所述安装通孔贯穿所述支撑柱的上下
    端面。
    9.根据权利要求8所述的抛光设备,其特征在于,所述清洗装置还包括:盖板,所述盖板
    与所述基板在竖直方向间隔设置,且所述盖板安装设置于所述支撑柱的另一端。
    10.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述喷水孔的喷射范围大等于所述
    抛光垫的半径。
    11.根据权利要求2所述的抛光设备,其特征在于,所述喷水板底面的外周缘至少部分
    向下延伸形成凸缘。
    12.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述清洗装置还包括:喷嘴,所述喷
    嘴嵌设在所述喷水孔内,且所述喷嘴的一端超出所述喷水板的底面,所述喷嘴的进口的径
    向尺寸大于所述喷嘴的出口的径向尺寸。
    13.根据权利要求4所述的抛光设备,其特征在于,所述基板在水平方向上可转动地设
    在所述支撑柱上。

    关 键 词:
    抛光 设备
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