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    广西11选5追号计算器: 制造衬底保持器的方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    广西11选5大小走势图 www.fnjpv.tw CN201610252175.0

    申请日:

    2012.02.16

    公开号:

    CN105824199A

    公开日:

    2016.08.03

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20120216|||公开
    IPC分类号: G03F7/20; G01J5/20; G01J5/02 主分类号: G03F7/20
    申请人: ASML荷兰有限公司
    发明人: R·W·L·拉法瑞; N·坦凯特; N·V·德兹欧姆提那; Y·P·科瑞德; S·A·特兰普; J·J·雷森; E·C·罗登伯格; M·W·L·H·菲特斯; H·于斯曼
    地址: 荷兰维德霍温
    优先权: 2011.02.18 US 61/444,483; 2011.04.19 US 61/477,056; 2011.12.16 US 61/576,627
    专利代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201610252175.0

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2019.03.29|||2016.08.31|||2016.08.03

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了制造衬底保持器的方法。用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。该平坦化层提供平滑表面,用于形成薄膜叠层以形成电子部件。该薄膜叠层包括可选的隔离层、用于形成电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件的金属层以及顶部隔离层。所述方法包括步骤:在所述衬底保持器的主体的表面的至少一部分上设置平坦化层;在所述平坦化层的顶部形成或附着薄膜叠层,其中所述薄膜叠层形成电子或电气部件,其中多个突节从所述表面突出且具有支撑衬底的端面,并且其中所述薄膜叠层与所述多个突节中的相邻突节沿水平地被间隙隔开。

    权利要求书

    1.一种制造衬底保持器的方法,所述方法包括步骤:
    在所述衬底保持器的主体的表面的至少一部分上设置平坦化层;以

    在所述平坦化层的顶部形成或附着薄膜叠层,其中所述薄膜叠层形
    成电子或电气部件,其中多个突节从所述表面突出且具有支撑衬底的端
    面,并且其中所述薄膜叠层与所述多个突节中的相邻突节沿水平地被间
    隙隔开。
    2.根据权利要求1所述的方法,其中所述薄膜叠层包括导电层。
    3.根据权利要求2所述的方法,其中所述薄膜叠层包括设置在距
    离所述平坦化层最远的导电层的表面上的隔离层。
    4.根据权利要求2所述的方法,其中所述薄膜叠层包括在所述导
    电层和所述平坦化层之间的隔离层。
    5.根据权利要求1所述的方法,其中所述薄膜叠层形成多个电子
    或电气部件。
    6.根据权利要求1所述的方法,还包括:将所述平坦化层设置在
    所述主体的所述表面的至少一部分上,以覆盖包围所述多个突节的区
    域,所述平坦化层设置在所述突节之间、但是不覆盖所述多个突节的端
    面。
    7.根据权利要求1所述的方法,其中所述电子或电气部件包括电
    绝缘层、在所述电绝缘层的顶部上的金属电极层和在所述金属电极层的
    顶部上的电介质层。
    8.一种制造衬底保持器的方法,所述方法包括步骤:
    使用第一技术将平坦化层的第一子层施加在所述衬底保持器的主体
    的表面的至少一部分上,所述第一技术从以下各项中选出:喷涂、旋
    涂、溅射、物理气相沉积或化学气相沉积;
    使用第二技术将所述平坦化层的第二子层施加在所述第一子层上,
    其中所述第二技术从以下各项中选出:喷涂、旋涂、溅射、物理气相沉
    积或化学气相沉积,所述第二技术不同于所述第一技术,所述平坦化层
    在从所述表面突出且具有支撑衬底的端面的多个突节之间。
    9.一种制造衬底保持器的方法,所述方法包括步骤:
    将平坦化层施加在所述衬底保持器的主体的表面的至少一部分上;

    在所述平坦化层的顶部上形成或附着电子或电气部件,其中多个突
    节从所述表面突出且具有支撑衬底的端面,并且其中所述电子或电气部
    件与所述多个突节中的相邻突节的侧壁沿水平地被开口间隙隔开。
    10.根据权利要求9所述的方法,包括将所述平坦化层施加在所述
    主体的所述表面的至少一部分上,以覆盖包围所述多个突节的区域,所
    述平坦化层设置在所述突节之间、但是不覆盖所述多个突节的端面。

    关 键 词:
    制造 衬底 保持 方法
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