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    广西11选5玩法: 一种光罩及彩膜基板的制备方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    广西11选5大小走势图 www.fnjpv.tw CN201510393712.9

    申请日:

    2015.07.07

    公开号:

    CN104932138A

    公开日:

    2015.09.23

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02F 1/1335申请日:20150707|||公开
    IPC分类号: G02F1/1335; G02F1/1339; G03F1/54(2012.01)I 主分类号: G02F1/1335
    申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
    发明人: 赵闯
    地址: 518132广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
    优先权:
    专利代理机构: 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 代理人: 张文娟; 朱绘
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201510393712.9

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2018.08.28|||2015.10.21|||2015.09.23

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种光罩及彩膜基板的制备方法,属于显示技术领域,可简化彩膜基板的制备过程,提高彩膜基板的生产效率。该光罩包括:第一透光率的第一部分、第二透光率的第二部分和第三透光率的第三部分,所述第一部分对应彩膜基板的平坦层,所述第二部分对应所述彩膜基板的辅隔垫物,所述第三部分对应所述彩膜基板的主隔垫物。本发明可用于液晶电视、液晶显示器、手机、平板电脑等显示装置。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种光罩,其特征在于,包括:
    第一透光率的第一部分、第二透光率的第二部分和第三透光率的第三部分,所述第一部分对应彩膜基板的平坦层,所述第二部分对应所述彩膜基板的辅隔垫物,所述第三部分对应所述彩膜基板的主隔垫物。

    2.  根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述第一透光率大于所述第二透光率,所述第二透光率大于所述第三透光率。

    3.  一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,包括:
    形成绝缘层;
    利用光罩,对所述绝缘层进行构图工艺,形成平坦层、辅隔垫物和主隔垫物,其中,所述光罩包括第一透光率的第一部分、第二透光率的第二部分和第三透光率的第三部分,所述第一部分对应所述彩膜基板的平坦层,所述第二部分对应所述彩膜基板的辅隔垫物,所述第三部分对应所述彩膜基板的主隔垫物。

    4.  根据权利要求3所述的方法,其特征在于,
    所述第一透光率大于所述第二透光率,所述第二透光率大于所述第三透光率。

    5.  根据权利要求4所述的方法,其特征在于,
    所述平坦层的厚度为1至5μm,所述主隔垫物的高度为1至4μm。

    6.  根据权利要求5所述的方法,其特征在于,
    所述辅隔垫物的高度小于所述主隔垫物的高度。

    7.  根据权利要求6所述的方法,其特征在于,
    所述绝缘层的材质为氮氧化物、硅氧化物、氮硅化物中的一种或多种。

    8.  根据权利要求6所述的方法,其特征在于,
    所述绝缘层的材质为光刻胶。

    9.  根据权利要求7所述的方法,其特征在于,利用光罩,对所述绝缘层进行构图工艺,形成平坦层、辅隔垫物和主隔垫物包括:
    在所述绝缘层之上形成光刻胶层;
    利用所述光罩,对所述光刻胶层进行曝光;
    对曝光之后的光刻胶层进行显影,所述光罩的第一部分对应的光刻胶层被完 全去除,第二部分对应的光刻胶层被部分去除,第三部分对应的光刻胶层完全保留;
    对绝缘层进行首次刻蚀,形成平坦层;
    对光刻胶层进行再次曝光并显影,所述光罩的第二部分对应的光刻胶层被完全去除,第三部分对应的光刻胶层被部分去除;
    对绝缘层进行第二次刻蚀,形成辅隔垫物;
    完全去除第三部分对应的光刻胶层,形成主隔垫物。

    10.  根据权利要求8所述的方法,其特征在于,利用光罩,对所述绝缘层进行构图工艺,形成平坦层、辅隔垫物和主隔垫物包括:
    利用光罩,对所述绝缘层进行一次曝光,对所述绝缘层进行显影后,同时形成平坦层、辅隔垫物和主隔垫物。

    关 键 词:
    一种 彩膜基板 制备 方法
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