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    广西11选5开奖结果走势图: 一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    广西11选5大小走势图 www.fnjpv.tw CN201510344747.3

    申请日:

    2015.06.19

    公开号:

    CN104914487A

    公开日:

    2015.09.16

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02B 1/10申请日:20150619|||公开
    IPC分类号: G02B1/10(2015.01)I; G02B1/04; G02B5/122; G03F1/80(2012.01)I 主分类号: G02B1/10
    申请人: 西安交通大学
    发明人: 刘红忠; 雷彪; 蒋维涛; 尹磊; 史永胜; 陈邦道
    地址: 710049陕西省西安市咸宁路28号
    优先权:
    专利代理机构: 西安智大知识产权代理事务所61215 代理人: 贺建斌
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201510344747.3

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2016.08.17|||2015.10.14|||2015.09.16

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法,先制备干法刻蚀所需要的金属掩蔽层,然后通过调控刻蚀参数制备倒锥柱阵列硅模具,最后翻模制备倒锥孔阵列柔性薄膜,将疏水处理过的倒锥柱阵列硅模具固定在衬底上,将垫层固定在倒锥柱阵列硅模具的两侧,用聚合物完全涂覆在倒锥柱阵列硅模具表面,然后真空处理去除聚合物中夹杂的气泡;再使用压板挤压聚合物,然后将压板、聚合物、垫层、倒锥柱阵列硅模具、衬底整个加热,使聚合物固化;再分离聚合物和倒锥柱阵列硅模具,获得聚合物倒锥孔阵列柔性薄膜,聚合物倒锥孔阵列柔性薄膜具有优良的弹性性能,通过施加外力驱使其变形实现反射率的调控;通过多层叠加或不同顺序的组合实现薄膜反射率的调控。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
    1)制备干法刻蚀所需要的掩蔽层,通过光刻工艺在准备干净的单晶硅片表面实现光刻胶的图形化;再通过溅射或蒸镀工艺在有光刻胶图形化的单晶硅片表面制备一层厚度为200~1000纳米的薄膜;然后通过剥离工艺获取薄膜的图形化,以形成干法刻蚀所需要的掩蔽层;
    2)制备倒锥柱阵列硅模具,将具有掩蔽层的单晶硅片放入干法刻蚀机,在刻蚀过程中通过调控刻蚀参数制备单晶硅片倒锥柱阵列硅模具,刻蚀参数为:功率105~150W,反射功率1~4W,偏压300~320V,刻蚀过程SF6流量90~99.8sccm,C4F8流量2.4~5.5sccm;边壁钝化过程SF6流量2.3~6.2sccm,C4F8流量85~96.9sccm;刻蚀与钝化转换周期为15~30秒;然后去除掩蔽层,获取倒锥柱阵列硅模具;
    3)翻模制备倒锥孔阵列柔性薄膜,首先,将疏水处理过的单晶硅片倒锥柱阵列硅模具固定在平坦的衬底上,然后,将垫层固定在单晶硅片倒锥柱阵列硅模具的两侧;再用聚合物完全涂覆在单晶硅片倒锥柱阵列硅模具表面,且聚合物厚度高于垫层2~5毫米,然后真空处理去除聚合物中夹杂的气泡;再使用压板挤压聚合物,施加在压板上的载荷为50~120Kg,保持15~30秒;然后将压板、聚合物、垫层、倒锥柱阵列硅模具、衬底整个加热,加热温度为50~90℃,保持30~60 分钟使聚合物固化;再分离聚合物和倒锥柱阵列硅模具,获得聚合物倒锥孔阵列柔性薄膜。

    2.  根据权利要求1所述的一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法,其特征在于:所述的薄膜为铝薄膜、氧化铝薄膜或氮化硅薄膜。

    3.  根据权利要求1所述的一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法,其特征在于:所述的聚合物为PDMS(聚二甲基硅氧烷)或PUA(聚氨酯-聚丙烯酸酯)或POE(聚烯烃弹性体)。

    4.  根据权利要求1所述的一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法,其特征在于:所述聚合物倒锥孔阵列柔性薄膜的倒锥孔大端直径D和小端直径d,所述聚合物倒锥孔阵列柔性薄膜的倒锥孔的深度H以及所述聚合物倒锥孔阵列柔性薄膜的倒锥孔的间距L尺寸关系为0.01≥D/H>0,20≥D/d>0,0.05≥D/L>0。

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    一种 增强 反射 柔性 薄膜 制造 方法
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