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    广西11选5开奖走势: 基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机.pdf

    摘要
    申请专利号:

    广西11选5大小走势图 www.fnjpv.tw CN201510601326.4

    申请日:

    2015.09.18

    公开号:

    CN105137720A

    公开日:

    2015.12.09

    当前法律状态:

    撤回

    有效性:

    无权

    法律详情: 发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):G03F 7/20申请公布日:20151209|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20150918|||公开
    IPC分类号: G03F7/20 主分类号: G03F7/20
    申请人: 中国科学院光电技术研究所
    发明人: 邓茜; 刘俊伯; 赵立新; 胡松; 司新春; 邓钦元; 周毅
    地址: 610209四川省成都市双流350信箱
    优先权:
    专利代理机构: 代理人:
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201510601326.4

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2018.01.09|||2016.01.06|||2015.12.09

    法律状态类型:

    发明专利申请公布后的视为撤回|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机,包括:光源照明系统、DMD数字微镜阵列、投影光刻物镜、X-Y步进工作台、对准控制系统、X-Y精密步进工作台和计算机。光源发出的光束经光学系统扩束、准直、均匀后照射到数字式微镜阵列掩模版(DMD)上,投射其上的光源光束经DMD反射后将成像在投影光刻物镜的入射光瞳处,最后由投影光识别灰度图片的掩模信息,再经成像系统的传输、校准及缩放后透过各光学物镜投射至胶层表面,诱导胶层内发生光化学反应;灰度值不同对应的投射光功率密度不同,光刻胶固化深度不同;通过控制图片掩模的灰度值并对其曝光、显影、刻蚀,即可实现不同深度的多台阶光栅的制作。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种基于数字微镜(DMD)阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机,其特征在于,该光刻机包括:光源照明系统、DMD数字微镜阵列、投影光刻物镜、X-Y步进工作台、对准控制系统、X-Y精密步进工作台和计算机;其中:曝光光学系统主要由光源照明系统和投影光刻物镜组成,即包括照明光源、椭球反光镜、反射镜、光电快门、蝇眼透镜、聚光镜、投影光刻物镜,照明光源选用350W高压汞灯照明,365nm波长曝光,高压汞灯所发射的光束经镀有冷光反射膜的椭球反光镜进行聚光,并初次过滤掉长波段光,即可见光和红外光成分,其后经冷光反射镜再次过滤长波成分,在椭球镜的后焦点附近设置快门,快门为光电快门,通过光电快门控制曝光时间,然后经准直镜将光束准直为平行光并进行扩束,蝇眼透镜为积木错位蝇眼透镜,采用积木错位蝇眼透镜进行光匀化,匀化后光束经聚光镜后投影到DMD数字微镜阵列上照明识别不同灰度值等间隔排列条纹图片掩模信息,DMD数字微镜阵列包括DMD控制芯片,计算机通过DMD控制芯片控制DMD数字微镜阵列,再经投影光刻物镜将DMD数字微镜阵列上反射的图形成像到硅片表面的光刻胶上,涂有光刻胶的硅片放置在X-Y精密步进工作台上,光刻胶上记录的图形再经显影、定影、刻蚀,最终将DMD数字微镜阵列上的掩模图形转印到基片上,实现不同深度的多台阶光栅制作。

    2.  根据权利要求1所述的基于数字微镜(DMD)阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机,其特征在于,照明光源采用350W高压汞灯且其曝光谱线为365nm波长i线的近紫外光照明;曝光光源采用积木错位蝇眼透镜实现均匀照明,其照明不均匀性为2%左右。

    3.  根据权利要求1所述的基于数字微镜(DMD)阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机,其特征在于,采用数字微镜DMD作为数字掩模,其像素为1024×768,像元尺寸为13.68μm×13.68μm,微镜间距为0.8μm,反射镜转角范围为±12°;采用缩小投影光刻物镜成像,其倍率为14倍,曝光面积为1mm×0.75mm,光刻分辨力≤1μm。

    4.  根据权利要求1所述的基于数字微镜(DMD)阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机,其特征在于,该光刻机采用缩小投影光刻物镜成像,一次曝光面积1mm×0.75mm,所述的调平调焦系统中CCD检焦精度为2μm,调焦台运动行程为8mm,调焦台运动灵敏度1μm,对准系统的对准精度为±1μm,转动台行程±6°以上,工件台运动定位精度为±0.65μm。

    5.  根据权利要求1或4所述的基于数字微镜(DMD)阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机,其特征在于,该光刻机所适用的基片尺寸外径为Φ1mm-Φ100mm,厚度为 0.1mm-8mm。

    6.  根据权利要求1或4所述的基于数字微镜(DMD)阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机,其特征在于,该光刻机采用进口精密光栅、电机、导轨、丝杠实现精确工件定位和曝光拼接;采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦和实时调平调焦曝光。

    关 键 词:
    基于 数字 阵列 制作 不同 深度 台阶 光栅 无掩模 光刻
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